特許
J-GLOBAL ID:200903023123996890

ポリヌクレオチドアレイの製作法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 古谷 馨 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-126767
公開番号(公開出願番号):特開2001-021558
出願日: 2000年04月27日
公開日(公表日): 2001年01月26日
要約:
【要約】【課題】 基板上にポリヌクレオチドアレイを製作する方法を提供する。【解決手段】 (a)ポリヌクレオチドデポジションシステムを作動させて、前記基板上にポリヌクレオチド含有する流体小滴のアレイをデポジットし、乾燥すると、ポリヌクレオチドを含有するスポットのターゲット・パターンを提供するステップと、(b)前記システムによってデポジットした小滴が乾燥するのに十分な時間を経過させ、実際のパターンの乾燥スポットが生じるようにするステップと、(c)前記実際のパターンを観察するステップと、(d)前記実際のパターンと、ポリヌクレオチドを含有するスポットの前記ターゲット・パターンを比較するステップ、とを含む方法。
請求項(抜粋):
基板上にポリヌクレオチドアレイを製作する方法であって、(a)ポリヌクレオチドデポジションシステムを作動させて、前記基板上にポリヌクレオチドを含有する流体小滴のアレイをデポジットし、乾燥すると、ポリヌクレオチドを含有するスポットのターゲット・パターンを提供するステップと、(b)前記システムによってデポジットした小滴が乾燥するのに十分な時間を経過させ、実際のパターンの乾燥スポットが生じるようにするステップと、(c)前記実際のパターンを観察するステップと、(d)前記実際のパターンと、ポリヌクレオチドを含有するスポットの前記ターゲット・パターンを比較するステップ、とを含む方法。
IPC (6件):
G01N 33/53 ,  C12M 1/00 ,  C12N 15/09 ,  G01N 1/10 ,  G01N 31/22 121 ,  G01N 33/566
FI (6件):
G01N 33/53 M ,  C12M 1/00 A ,  G01N 1/10 N ,  G01N 31/22 121 P ,  G01N 33/566 ,  C12N 15/00 A
引用特許:
審査官引用 (2件)

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