特許

J-GLOBAL ID：200903023131462145

ガスハイドレート生成方法及び装置

発明者： 吉川 孝三
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 奥山 尚一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-120652
公開番号（公開出願番号）：特開2003-313569
出願日： 2002年04月23日
公開日（公表日）： 2003年11月06日
要約：

【要約】【課題】 空気や水分等の混入を防止して、多孔質体中でガスハイドレートを均一に生成するガスハイドレート生成方法。【解決手段】 圧力を一定に保持しうる容器2に、原料ガスと水蒸気と多孔質体7とを内蔵し、ガスハイドレートの臨界生成点温度より高い温度領域にある高温領域から、ガスハイドレートの臨界生成点温度より低い温度領域にある低温領域へと多孔質体7を遷移させ、上記多孔質体7中にガスハイドレートを均一に生成させることを特徴とするガスハイドレート生成方法。

請求項（抜粋）：

圧力を一定に保持しうる容器に、原料ガスと水蒸気と多孔質体とを内蔵し、ガスハイドレートの臨界生成点温度より高い温度領域にある高温領域から、ガスハイドレートの臨界生成点温度より低い温度領域にある低温領域へと多孔質体を遷移させ、上記多孔質体中にガスハイドレートを均一に生成させることを特徴とするガスハイドレート生成方法。

IPC (7件)：

C10L 3/06 ,  B01J 19/00 ,  C07B 61/00 ,  C07B 63/02 ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04

FI (7件)：

B01J 19/00 A ,  C07B 61/00 C ,  C07B 63/02 B ,  C07C 5/00 ,  C07C 7/20 ,  C07C 9/04 ,  C10L 3/00 A

Fターム (20件)：

4G075AA03 ,  4G075AA65 ,  4G075AA70 ,  4G075BD14 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075CA51 ,  4G075DA02 ,  4G075EA06 ,  4G075EB01 ,  4G075ED13 ,  4G075FA14 ,  4G075FB04 ,  4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AC90 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BD80 ,  4H006BE60