特許
J-GLOBAL ID:200903023133038634

複数の分布を同時に生成する決定論的方式によるサンプリングシミュレーション装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 大菅 義之 ,  久木元 彰
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-036901
公開番号(公開出願番号):特開2006-221578
出願日: 2005年02月14日
公開日(公表日): 2006年08月24日
要約:
【課題】 物質の物理的、化学的性質を計算するためのサンプリングをシステマティックに効率よく行うことができるサンプリングシミュレーション装置を提供する。【解決手段】 決定論的微分方程式を数値積分することによって、解の軌跡を求め、この軌跡に沿ってサンプリングを行う際に、該微分方程式の解がBoltzmann-Gibbs(BG)分布より広いエネルギー範囲をカバーする複数のTsallis分布を合成した分布を再現するように設定する。Tsallis分布のパラメータには、いくつかの値を設定し、それぞれ異なったパラメータ値に対応するTsallis分布を合成したものを作る。複数のTsallis分布を合成した分布から得られた軌跡からサンプリングしたサンプリング点を使って、BG分布に従う物理系の物理的及び化学的性質を、統計力学の方法によって、計算する。
請求項(抜粋):
決定論的微分方程式を数値積分した結果を用いてサンプリングを行い、物質の物理的、化学的性質を計算するサンプリングシミュレーション装置において、 Boltzmann-Gibbs分布より、カバーするエネルギー範囲が広い分布を異なる複数のパラメータについて複数生成する複数分布生成手段と、 数値積分した結果得られた軌跡に沿ってサンプリングした結果が該複数の分布を合成した分布を再現する決定論的微分方程式を数値積分する数値積分手段と、 該数値積分の結果得られた軌跡に沿ってサンプリングするサンプリング手段と、 を備えることを特徴とするサンプリングシミュレーション装置。
IPC (2件):
G06F 19/00 ,  G06F 17/50
FI (2件):
G06F19/00 110 ,  G06F17/50 638
Fターム (2件):
5B046AA00 ,  5B046JA04
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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