特許

J-GLOBAL ID：200903023158264957

低温殺菌法

発明者： 山田 光男 ,  李 昌一 ,  中村 浩康
出願人/特許権者： 有限会社山田エビデンスリサーチ
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2004000001
公開番号（公開出願番号）：WO2004-060817
出願日： 2004年01月05日
公開日（公表日）： 2004年07月22日
要約：

低温で、耐熱性細菌等の低温では完全に殺菌することが困難な微生物を含む微生物類を完全に殺菌することが可能な低温殺菌法を提供する。水または水性流体中に存在する処理対象の微生物を、可視光線の存在下で濃度を0.3〜3.0%濃度範囲の過酸化水素由来のラジカルにより前記微生物を-20〜10°Cの温度範囲で殺菌処理する低温殺菌法であって、前記処理対象の微生物に対する所定濃度の過酸化水素由来のラジカルの作用点に到達する以上の時間処理を行う。

請求項（抜粋）：

水または水性流体中に存在する処理対象の微生物あるいは水または水性流体中で殺菌処理を施す被処理物中の処理対象の微生物を、1.5〜5%濃度範囲の過酸化水素由来のラジカル種で殺菌する方法であって、 前記ラジカル種を10°C以下の温度で処理対象の微生物に作用させることを特徴とする殺菌方法。

IPC (7件)：

C02F 1/50 ,  A01K 61/00 ,  A23B 4/08 ,  A23B 7/14 ,  A23L 3/358 ,  A61L 2/02 ,  C02F 1/30

FI (16件)：

C02F1/50 531Q ,  C02F1/50 510A ,  C02F1/50 510Z ,  C02F1/50 520A ,  C02F1/50 520Z ,  C02F1/50 540B ,  C02F1/50 550H ,  C02F1/50 550L ,  C02F1/50 560C ,  C02F1/50 560Z ,  A01K61/00 B ,  A23B4/08 A ,  A23B7/14 ,  A23L3/358 ,  A61L2/02 Z ,  C02F1/30

Fターム (31件)：

2B104BA13 ,  2B104EF11 ,  4B021LP10 ,  4B021LW02 ,  4B021LW03 ,  4B021MC01 ,  4B021MK15 ,  4B069CA02 ,  4B069HA14 ,  4B069KA01 ,  4B069KC15 ,  4C058AA06 ,  4C058AA12 ,  4C058AA20 ,  4C058AA21 ,  4C058AA30 ,  4C058BB02 ,  4C058BB06 ,  4C058BB07 ,  4C058BB09 ,  4C058DD03 ,  4C058DD04 ,  4C058JJ07 ,  4C058KK01 ,  4D037AA01 ,  4D037AA12 ,  4D037AB03 ,  4D037BA16 ,  4D037BA21 ,  4D037CA11 ,  4D037CA16