特許

J-GLOBAL ID：200903023161953500

金属酸化物膜の製造方法

発明者： 武田 光生
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
代理人 (1件)： 松本 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-024522
公開番号（公開出願番号）：特開2004-231495
出願日： 2003年01月31日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：

【課題】導電性などの膜質が良好な金属酸化物膜を得ることができる、金属酸化物膜の製造方法を提供する。【解決手段】金属酸化物膜の製造方法は、金属カルボン酸塩とアルコールとを出発原料とするか、または、金属アルコキシ基含有化合物とカルボキシル基含有化合物とを出発原料として生成する金属酸化物を基材の表面に膜として定着させた後、前記膜にプラズマ照射処理を施す。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

金属カルボン酸塩とアルコールとを出発原料とするか、または、金属アルコキシ基含有化合物とカルボキシル基含有化合物とを出発原料として生成する金属酸化物を基材の表面に膜として定着させた後、前記膜にプラズマ照射処理を施す、金属酸化物膜の製造方法。

IPC (3件)：

C01B13/18 ,  C01G9/02 ,  C01G15/00

FI (3件)：

C01B13/18 ,  C01G9/02 A ,  C01G15/00 B

Fターム (15件)：

4G042DA01 ,  4G042DA02 ,  4G042DB10 ,  4G042DB22 ,  4G042DB31 ,  4G042DC01 ,  4G042DD02 ,  4G042DE07 ,  4G042DE08 ,  4G042DE09 ,  4G042DE14 ,  4G047AA02 ,  4G047AB04 ,  4G047AC03 ,  4G047AD02