特許
J-GLOBAL ID：200903023162295018
微細凹凸パターン成形用成形型
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-346345
公開番号（公開出願番号）：特開平5-177705
出願日： 1991年12月27日
公開日（公表日）： 1993年07月20日
要約：
【要約】【目的】 この発明は、頻繁に化学洗浄をしても微細凹凸パターンに欠落が生ずることのない微細凹凸パターン成形用成形型を提供することを目的とする。【構成】 本発明にかかる微細凹凸パターン成形用成形型10は、微細凹凸パターン2を窒素とクロムとを含む材料で構成し、かつこの材料中の窒素含有量を20原子%以上にしたことにより、化学洗浄を頻繁に行ってもパターンの欠落を防止できるという効果を得ているものである。
請求項（抜粋）：
基板上に微細凹凸パターンを有する微細凹凸パターン成形用成形型において、前記微細凹凸パターンを窒素とクロムとを含む材料で構成し、かつこの材料中の窒素含有量を20原子%以上にしたことを特徴とする微細凹凸パターン成形用成形型。
IPC (6件)：
B29C 59/02
, B29C 33/38
, B29C 33/42
, B29C 45/37
, G11B 7/26 511
, B29L 17:00
