特許
J-GLOBAL ID:200903023167239540

セラミックス基板およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井内 龍二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-259884
公開番号(公開出願番号):特開平7-118035
出願日: 1993年10月18日
公開日(公表日): 1995年05月09日
要約:
【要約】【構成】 ガラスと結晶とからなるセラミックス基板において、前記ガラスとしてMgO-Al2 O3 -SiO2 -B2 O3 -R2 O系ガラス(Rはアルカリ金属を示す)を、前記結晶としてコージェライトをそれぞれ主に含有し、さらに石英ガラス及び/又は石英結晶を含有しているセラミックス基板。【効果】 ガラスの軟化温度が720°C以下になり、850〜1000°Cの焼成温度でも気孔率を減少させてち密化することができ、熱膨張係数がシリコンに近く、比誘電率が小さく、機械的強度、耐湿性、耐水性等にも優れたセラミック基板を提供することができる。
請求項(抜粋):
ガラスと結晶とからなるセラミックス基板において、前記ガラスとしてMgO-Al2 O3 -SiO2 -B2 O3 -R2 O系ガラス(Rはアルカリ金属を示す)を、前記結晶として2MgO・2Al2 O3 ・5SiO2 をそれぞれ主に含有し、さらにSiO2 ガラス及び/又はSiO2 結晶を含有していることを特徴とするセラミックス基板。
IPC (3件):
C03C 10/08 ,  C03C 10/04 ,  H05K 1/03
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭64-051346
  • 特開平4-050141
  • 特開平1-093436
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