特許

J-GLOBAL ID：200903023170302341

位相測定装置及びそれを用いた光学素子、露光装置、デバイスの製造方法

発明者： 吉井 実 ,  大内 千種 ,  竹内 誠二 ,  杉田 充朗
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-199019
公開番号（公開出願番号）：特開2004-045043
出願日： 2002年07月08日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：

【課題】曲率のある反射鏡や平面反射鏡に施した反射膜のEUV波長の光に対する位相特性を容易に、しかも高精度に測定することができる位相測定装置を得ること。【解決手段】EUV光と248nmの波長の光を含む光束を披検面に所定の角度範囲を持って入射させる照明光学系と、前記被検面からの反射光によりEUV光の干渉縞と248nmの波長の光の干渉縞とを検出手段上に形成する検出光学系とを有し、前記検出手段により検出された前記干渉縞を測定することによって、前記被検面がEUV光に与える位相の、EUV光の前記被検面への入射角への依存性を測定する位相測定装置。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

第1波長の光と第2波長の光を含む光束を披検面に所定の角度範囲を持って入射させる照明光学系と、前記被検面からの反射光により前記第1波長の光の干渉縞と前記第2波長の光の干渉縞とを検出手段上に形成する検出光学系とを有し、前記検出手段により検出された前記干渉縞を測定することによって、前記被検面が前記第1波長の光に与える位相の、前記第1波長の光の前記被検面への入射角への依存性を測定することを特徴とする位相測定装置。

IPC (3件)：

G01J9/02 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G01J9/02 ,  G03F7/20 503 ,  H01L21/30 531A

Fターム (6件)：

2H097CA15 ,  2H097LA10 ,  2H097LA12 ,  2H097LA17 ,  5F046GB01 ,  5F046GB09