特許
J-GLOBAL ID：200903023172095513
電子線照射方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-142068
公開番号（公開出願番号）：特開2000-325440
出願日： 1999年05月21日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：
【要約】【課題】 高密度で円筒形の組み合わせからなるような複雑な形状をした被照射物に対して、被照射物全体にわたって十分な滅菌線量を照射でき、かつ線量分布の少ない概ね均一な線量で電子線を照射することを可能にする技術の提供。【解決手段】 密度と厚みの積が2.5(g/cm2)以上である血液処理モジュール等の医療機器に高出力の電子線を照射しながら殺菌等の所期の目的を達成する電子線照射方法において、前記円筒形部の中心軸線を中心として被照射物の照射位置を変更させながら累積照射を行なうとともに、該累積照射位置が、前記中心軸線に対し180°対称位置以外の周面方向の任意の3点以上の角度位置、より具体的には3以上の奇数(3、5、7...)正多角形のほぼ頂部位置であることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
少なくともその一部に円筒形部を有する被照射物に高エネルギの電子線を照射しながら殺菌等の所期の目的を達成する電子線照射方法において、前記円筒形部の中心軸線を中心として被照射物の照射位置を変更させながら累積照射を行なうとともに、該累積照射位置が、前記中心軸線に対し180°対称位置以外の周面方向の任意の3点以上の角度位置であることを特徴とする電子線照射方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (5件)：
4C058AA17
, 4C058BB06
, 4C058KK03
, 4C058KK32
, 4C058KK42
