二次元測定機

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：八木秀人 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-122308
公開番号（公開出願番号）：特開平5-312546
出願日： 1992年05月14日
公開日（公表日）： 1993年11月22日
要約：

【要約】【目的】エッジ座標を検出するための指示操作を改善し、測定能率を大幅に向上することができる二次元測定機の提供。【構成】測定機では、円(測定対象物)Aのエッジ部を検出する際に、CCDカメラで撮像され、二次元座標を有するモニタ装置上に再現表示されている円A内の任意の点Bをマウスにより特定指示する。点Bの指示が行われると、点Bから円Aの外方に向けて多数の放射状線分Cが形成され、この放射状線分Cと円Aとの関係に基づいてエッジ部が検出される。エッジ部の検出は、放射状線分Cの座標と対応したモニタ装置の画像信号の明暗を判別することにより行われる。エッジ部b1〜bnが検出されると、そのx,y軸上の座標値は特定されるので、これらの座標値から、最小二乗法により円Aの中心座標x0,y0と、直径とが求められ、その結果がプリンタに印字される。

請求項（抜粋）：

二次元測定対象物と平行な二次元方向に相対移動可能に支持され、明暗差によりエッジが画成された測定対象物を撮像して電気画像信号として出力するCCDカメラと、前記CCDカメラの画像信号を記憶する画像メモリと、前記測定対象物を二次元座標上に再現表示するモニタ装置と、前記モニタ装置上で任意の点を特定指示する座標指示装置と、前記画像メモリに記憶されている画像信号に所定の画像処理を施して前記モニタ装置に出力するとともに、前記座標指示装置で特定指示された点に基づいて、前記測定対象物のエッジを検出して前記モニタ装置上のエッジ座標値を演算し、このエッジ座標値に基づいて前記測定対象物の形状を推定する集中制御装置とを備えた二次元測定機において、前記集中制御装置は、前記エッジ検出の際に、前記座標指示装置で特定指示された前記測定対象物内の1点からその外側まで到達する3以上の放射状線分を形成することを特徴とすることを特徴とする二次元測定機。

IPC (4件)：

G01B 11/24 , G06F 15/62 320 , G06F 15/62 380 , G06F 15/70 320

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開昭63-179202
特開昭63-217480
特開昭63-217480

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