特許

J-GLOBAL ID：200903023184563318

光ディスク保護膜及び同保護膜形成用スパッタリングタ-ゲット

発明者： 桑野 勝雄 ,  高見 英生
出願人/特許権者： 株式会社ジャパンエナジー
代理人 (1件)： 小越 勇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-372318
公開番号（公開出願番号）：特開2000-195101
出願日： 1998年12月28日
公開日（公表日）： 2000年07月14日
要約：

【要約】【課題】 パーティクルの発生を極力減少させ、スパッタリングの中断または中止の回数を減らして生産効率を上げると同時に、より透過率が大きくかつ低反射率の光ディスク保護膜を得る。【解決手段】 ZnO、In2O3又はSnO2 の1又は2以上を主成分とすることを特徴とする光ディスク保護膜。必要に応じて、さらにAl2O3若しくはGa2O3又はZrO2若しくはTiO2を含有する光ディスク保護膜。

請求項（抜粋）：

ZnO、In2O3又はSnO2 の1又は2以上を主成分とすることを特徴とする光ディスク保護膜。

IPC (4件)：

G11B 7/24 534 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/34 ,  G11B 7/26

FI (5件)：

G11B 7/24 534 K ,  C23C 14/08 C ,  C23C 14/08 D ,  C23C 14/34 A ,  G11B 7/26

Fターム (10件)：

4K029BA45 ,  4K029BA47 ,  4K029BA49 ,  4K029BA50 ,  4K029BD00 ,  4K029DC05 ,  5D029LA12 ,  5D029LA14 ,  5D121AA04 ,  5D121EE09

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平1-264646
  
• 特開平4-325938
  
• 特開平3-152736
  
• 特開昭61-180945