特許
J-GLOBAL ID:200903023191689149

3位置換シクロヘキサノールおよびこれを用いてなる3位置換シクロヘキシルアセテートの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 久保山 隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-007386
公開番号(公開出願番号):特開平10-259149
出願日: 1998年01月19日
公開日(公表日): 1998年09月29日
要約:
【要約】【課題】 穏和な条件下で香料として有用なトランス含量の多い3位置換シクロヘキサノールおよび3位置換シクロヘキシルアセテートの製造方法を提供すること。【解決手段】 3位に置換基を有するフェノールをロジウム、白金、ルテニウム、パラジウム、ラネーNiよりなる群れから選ばれた少なくとも1種の触媒と溶媒の存在下、塩化水素、(無水)硫酸および過塩素酸よりなる群れから選ばれた少なくとも1種を共存させて水素化し3位置換シクロヘキサノールを製造し、次いで必要により、上記方法で得られた3位置換シクロヘキサノールをアセチル化して3位置換シクロヘキシルアセテートを製造する。
請求項(抜粋):
3位に置換基を有するフェノールをロジウム、白金、ルテニウム、パラジウム、ラネーNiよりなる群れから選ばれた少なくとも1種の触媒と溶媒の存在下、塩化水素、(無水)硫酸、過塩素酸、臭化水素および臭素よりなる群れから選ばれた少なくとも1種を共存させて水素化することを特徴とする3位置換シクロヘキサノールの製造方法。
IPC (4件):
C07C 35/08 ,  B01J 23/46 311 ,  C07C 29/19 ,  C07B 61/00 300
FI (4件):
C07C 35/08 ,  B01J 23/46 311 X ,  C07C 29/19 ,  C07B 61/00 300

前のページに戻る