特許
J-GLOBAL ID：200903023210152704
多孔体細孔の微細化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光石 俊郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-279986
公開番号（公開出願番号）：特開平5-117053
出願日： 1991年10月25日
公開日（公表日）： 1993年05月14日
要約：
【要約】【目的】 高温での長時間使用によっても微細孔が消滅しないようにする。【構成】 無機多孔体の細孔内にシリカゲル、アルミナゲルまたはシリカ・アルミナゲルからなる封孔材を担持した後、約350〜600°Cで焼成処理する。
請求項（抜粋）：
無機多孔体の細孔内にシリカゲル、アルミナゲルまたはシリカ・アルミナゲルからなる封孔材を担持して細孔を微細化する方法であって、上記封孔材を担持後に約350〜600°Cで焼成処理することを特徴とする多孔体細孔の微細化方法。
引用特許：
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