特許
J-GLOBAL ID:200903023223105357
研磨パッドとその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-290581
公開番号(公開出願番号):特開2000-117618
出願日: 1998年10月13日
公開日(公表日): 2000年04月25日
要約:
【要約】【課題】 被研磨部材との間に研磨剤を介在させ、前記被研磨部材との間に相対運動を与えることにより前記被研磨部材を研磨する研磨パッドに於いて、研磨パッドの面精度を出すのに時間がかかると共に、面内での平面度誤差を数μm以下にするのが困難であるという問題、更に溝パターンを切削加工で形成するために長時間がかかると共に、細かくて高精度の溝を形成することが困難であるという問題があった。また更に切削によるくずが残り、この切削くずの除去に時間がかかるという問題があった。【解決手段】以上の問題点を解決するため、本発明の研磨パッドは、基材層の表面に塗布されたレジスト層をリソグラフィー法にて所望の形状にパターニングし、レジスト層をマスクとしてエッチング法にて基材層の表面をエッチングする事により形成された溝を有する研磨材層を具える。
請求項(抜粋):
被研磨部材との間に研磨剤を介在させ、前記被研磨部材との間に相対運動を与えることにより前記被研磨部材を研磨する研磨パッドであって、前記研磨パッドが、母材となる基材層の表面に塗布されたレジスト層をリソグラフィー法にて所望の形状にパターニングし、前記レジスト層をマスクとしてエッチング法にて前記基材層の表面をエッチングする事により形成された溝を有する研磨材層を具える事を特徴とする研磨パッド。
Fターム (6件):
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058CB01
, 3C058CB03
, 3C058CB10
, 3C058DA17
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