特許

J-GLOBAL ID：200903023230977300

フォトマスクの搬送装置

発明者： 濱 満男
出願人/特許権者： ソニー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-116095
公開番号（公開出願番号）：特開平8-316284
出願日： 1995年05月15日
公開日（公表日）： 1996年11月29日
要約：

【要約】【目的】 半導体装置のリソグラフィ工程で用いるペリクル付きレチクルのようなフォトマスクの表面に生じた静電気を除去して、異物の付着を除去できるフォトマスクの搬送装置を得ること。【構成】 本発明のフォトマスクの搬送装置100は、所定の搬送経路にしたがってフォトマスク1を搬送するマスク搬送機構4〜9と、これらマスク搬送機構により規定の検査位置に搬送されたフォトマスク1上の異物の有無を検査する異物検査部2と、その検査結果で異物有りと判定されたフォトマスク1を収容し、かつその表面上の異物をエアー吹出部10からの噴射エアーにより除去し、その後、噴射エアーによりフォトマスク1に生じた静電気を除去する静電気除去装置がエアー吹出部10のシャッター部11側近傍に設置されている。

請求項（抜粋）：

フォトマスクの表面に付着した異物をエアーを噴射して除去した後、該フォトマスクの表面に帯電している静電気を除去する静電気除去装置を具備していることを特徴とするフォトマスクの搬送装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  G01N 21/88 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

H01L 21/68 A ,  G01N 21/88 E ,  G03F 1/08 X ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 502 P