特許

J-GLOBAL ID：200903023261155937

ウェハのマクロ検査装置およびその方法

発明者： 上田 泰広
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-012084
公開番号（公開出願番号）：特開2000-207562
出願日： 1999年01月20日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：

【要約】【課題】 ランダムパターン部の影響による疑似不良を抑えることができ、高精度のマクロ検査が可能なウェハのマクロ検査装置を提供すること。【解決手段】 ウェハのマクロ検査装置は、被検査ウェハ10を照射する照明部12と、被検査ウェハ10を撮像するCCDカメラ15と、CCDカメラ15によって出力された画像信号から被検査ウェハ10の繰り返しパターン部の画像データを抽出し、この抽出された繰り返しパターン部の画像データに基づいて被検査ウェハ10の良否を判定する画像処理部19とを含む。

請求項（抜粋）：

被検査ウェハを照射するための照明手段と、前記被検査ウェハを撮像するための撮像手段と、前記撮像手段によって出力された画像信号から前記被検査ウェハの繰り返しパターン部の画像データを抽出するための抽出手段と、前記抽出手段によって抽出された繰り返しパターン部の画像データに基づいて前記被検査ウェハの良否を判定するための良否判定手段とを含むウェハのマクロ検査装置。

IPC (2件)：

G06T 7/00 ,  H01L 21/66

FI (3件)：

G06F 15/62 405 A ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/66 Z

Fターム (18件)：

4M106AA01 ,  4M106BA20 ,  4M106CA38 ,  4M106CA41 ,  4M106DB04 ,  4M106DB13 ,  4M106DB19 ,  4M106DJ12 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057BA23 ,  5B057CC02 ,  5B057CH08 ,  5B057DA03 ,  5B057DC19 ,  5B057DC22