可塑剤を含む放射線感応性組成物

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：池浦敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-094299
公開番号（公開出願番号）：特開平8-262720
出願日： 1995年03月28日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：

【要約】【構成】 a)ヒドロキシスチレン、またはテトラヒドロピラニルやt-ブトキシカルボニル基などの酸に敏感な基により部分的に保護されたヒドロキシスチレンの単独重合体または共重合体、b)酸により開裂し得る基により保護されたポリ(N,O-アセタール)またはフェノールまたはビスフェノールの様な溶解防止剤、c)露光により酸を発生することができる感光性化合物、d)放射により分解し、露光から熱処理までの間に線幅を調製することができる塩基、e)可塑剤、およびf)溶剤を含む、化学的増感型のレジスト材料。【効果】この混合物は、KrFレーザーを使用して0.20ミクロン以下の線および空間を印刷するのに好適であり、基材に対する接着性が高く、解像度、焦点寛容度、耐熱性および耐エッチング剤性が優れている。

請求項（抜粋）：

a)水に不溶で、かつ、アルカリ水溶液に可溶であるかまたはアルカリ水溶液中で膨潤し得る結合剤、b)一般式(I): (-CHR3 -O-R4 -X-NR5 -)p (I)(式中、R3 はアルキル、アリールまたは置換されたアリール基であり、R4 は二価のアルキレン、シクロアルキレン、二価のアルケンまたは二価のアルキン基であり、R5 はアルキル、アルケン、アルキンまたはシクロアルキル基であり、Xは-OCO-、-CO-または-NHCO-であり、そしてpは1以上の数である、)を有するポリ(N,O-アセタール)および/または水酸基が酸により開裂し得る基で保護されているフェノール性化合物からなる溶解防止剤、c)活性線放射に露出することにより酸を発生し得る感光性化合物、d)活性線放射に露出することにより中性化合物に分解し得る塩基、e)可塑剤、及びf)溶剤を含むことを特徴とする放射線感応性組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 503 , H01L 21/30 502 R

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