特許
J-GLOBAL ID：200903023263781797
薄膜の形成方法及びその形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
粟野 重孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-126669
公開番号（公開出願番号）：特開平7-333451
出願日： 1994年06月09日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：
【要約】【目的】 多数の被成膜体を同時に高精度で均一な膜厚で成膜する。【構成】 基板(被成膜体)9を成膜治具を介して曲面の回転ドーム(回転型ホルダー)8上に設置して成膜を行うときに、各基板9の傾きを発光手段14と受光手段15で光学的に検出してミスセッティングを防ぐとともに、成膜治具と回転ドーム8を点接触とすることにより、成膜中の成膜治具のがたつきを抑え、回転ドーム8の円周上の各基板9に高精度で均一な膜厚で成膜できる。
請求項（抜粋）：
真空槽内の所定位置に複数の被成膜体を成膜治具を介して回転型ホルダーに保持した後、前記回転型ホルダーを回転させながら同一円周上にある前記各被成膜体に発光手段による光ビームを照射し、前記各被成膜体から反射した前記光ビームが予め設定した位置にあることを受光手段により確認した後、所定の蒸着材料で前記被成膜体に成膜することを特徴とする薄膜の形成方法。
IPC (2件)：
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