特許

J-GLOBAL ID：200903023272587260

傾斜感度が低減されたウェハアライメント装置および方法

発明者： ゲルブラント ファン デル ツォウグ
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-036909
公開番号（公開出願番号）：特開2004-260163
出願日： 2004年02月13日
公開日（公表日）： 2004年09月16日
要約：

【課題】ウェハ上の光学マーカの傾斜に関して、傾斜感度が低減されたウェハアライメント装置を提供する。【解決手段】少なくとも1つの回折次数を生成するように配置された格子からなる基板に入射する入射光ビームIB;IB2を生成する光源と、少なくとも1つの回折次数をセンサ装置DETにて結像する光学装置1とから構成される基板アライメントシステムは、構成回折ビームDB1、DB2を通過させるよう、所定位置にアパーチャPH1、PH2を有するアパーチャ手段TAを備え、構成回折ビームDB1、DB2の各々はアパーチャPH1、PH2の面にて回折ビーム直径BD1、BD2を有し、各々の該回折ビーム直径BD1、BD2はアパーチャPH1、PH2直径よりも大きい。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

- 使用時に、所望するパターンに従って、パターン化ビームとして投影ビームをパターン化するパターニング手段と、 - 基板を保持する基板テーブル(WS)と、 - 該パターニング手段の位置に対して該基板の位置を検出する基板アライメントシステム(MS)とを有し、 - 前記基板は、回折長を有し、かつ、使用時に、該回折長により入射光ビーム(IB;IB2)との相互作用による構成回折ビーム(DB1、DB2)の少なくとも1つの回折次数を生成するように配置された少なくとも1つの格子(MAR)を有し、 - 前記基板アライメントシステム(MS)は、該入射光ビーム(IB;IB2)を生成する光源と、少なくとも1つの該回折次数をセンサ装置(DET)にて結像する光学装置(1)とから構成され、 - 前記光学装置(1)は、該構成回折ビーム(DB1、DB2)を通過させるよう、所定位置にアパーチャ(PH1、PH2)を有するアパーチャ手段(TA)を備えたリソグラフィ投影装置において、該構成回折ビーム(DB1、DB2)の各々は該アパーチャ(PH1、PH2)のレベルにて回折ビーム直径(BD1、BD2)を有し、該構成回折ビーム(DB1、DB2)各々の該回折ビーム直径(BD1、BD2)は該アパーチャ(PH1、PH2)直径よりも大きいことを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F9/00

FI (3件)：

H01L21/30 525R ,  G03F9/00 H ,  H01L21/30 522D

Fターム (7件)：

5F046BA03 ,  5F046EA07 ,  5F046EB01 ,  5F046ED02 ,  5F046FA10 ,  5F046FA17 ,  5F046FB06