ニトリルの第1級アミンへの水素化法、ラネー触媒の製法、およびラネー触媒

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢野敏雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-347779
公開番号（公開出願番号）：特開2002-205975
出願日： 2001年11月13日
公開日（公表日）： 2002年07月23日
要約：

【要約】【課題】第1級アミンの形成に高い選択性を示し、ニトリルの解離のような2次反応を回避できる、ニトリルの穏やかな水素化法を提供すること。【解決手段】アルミニウムと鉄、コバルトおよびニッケルから成る群より選択される少なくとも1種の遷移金属ならびに場合により、チタン、ジルコニウム、クロムおよびマンガンから成る群より選択される1種以上の別の遷移金属とから成る合金をベースとする活性、α-Al2O3-含有微孔性ラネー触媒上での、ニトリルの第1級アミンへの水素化法。

請求項（抜粋）：

(a)〜(f)の順序を有する工程:(a)合金、成形助剤、水および増孔剤からなる混練組成物を製造し;(b)混練組成物を成形して造形品を作り;(c)造形品を焼成し;(d)アルカリ金属水酸化物水溶液で処理して、焼成した造形品を活性化し;(e)アルカリ金属水酸化物水溶液で触媒造形品を洗浄し;(f)水で触媒造形品を洗浄するを含む方法により製造される、アルミニウムと鉄、コバルトおよびニッケルから成る群より選択される少なくとも1種の遷移金属ならびに場合により、チタン、ジルコニウム、クロムおよびマンガンから成る群より選択される1種以上の別の遷移金属とから成る合金をベースとする活性、α-Al2O3-含有マクロ孔ラネー触媒上での、ニトリルの第1級アミンへの水素化法。

IPC (8件)：

C07C209/48 , B01J 25/02 , B01J 35/04 , B01J 35/10 301 , C07C211/14 , C07C211/35 , C07D295/12 , C07B 61/00 300

FI (8件)：

C07C209/48 , B01J 25/02 Z , B01J 35/04 D , B01J 35/10 301 G , C07C211/14 , C07C211/35 , C07D295/12 A , C07B 61/00 300

Fターム (64件)：

4G069AA02 , 4G069AA08 , 4G069BA01A , 4G069BA01B , 4G069BB02C , 4G069BB03A , 4G069BB03B , 4G069BB03C , 4G069BC16A , 4G069BC16B , 4G069BC16C , 4G069BC50A , 4G069BC51A , 4G069BC58A , 4G069BC58B , 4G069BC58C , 4G069BC62A , 4G069BC66A , 4G069BC66B , 4G069BC66C , 4G069BC67A , 4G069BC67B , 4G069BC67C , 4G069BC68A , 4G069BC68B , 4G069BC68C , 4G069CB02 , 4G069DA05 , 4G069EC06X , 4G069EC06Y , 4G069EC07X , 4G069EC08X , 4G069EC22X , 4G069EC22Y , 4G069FA01 , 4G069FB48 , 4G069FC02 , 4G069FC08 , 4H006AA02 , 4H006AC52 , 4H006BA09 , 4H006BA10 , 4H006BA14 , 4H006BA16 , 4H006BA19 , 4H006BA20 , 4H006BA21 , 4H006BA34 , 4H006BA55 , 4H006BA56 , 4H006BA70 , 4H006BA81 , 4H006BA82 , 4H006BA85 , 4H006BB10 , 4H006BB20 , 4H006BB24 , 4H006BC10 , 4H006BC11 , 4H006BC32 , 4H006BD20 , 4H006BE20 , 4H039CA71 , 4H039CB30

引用特許：

審査官引用 (3件)

固定層のラニー金属触媒、その製法及びこの触媒を用いる重合体の水素化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-285493 出願人：ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
特開平2-009446
特開平2-009446

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