特許
J-GLOBAL ID:200903023278892927
マルチビーム走査システム
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
佐野 静夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-176755
公開番号(公開出願番号):特開2001-004939
出願日: 1999年06月23日
公開日(公表日): 2001年01月12日
要約:
【要約】【課題】 主走査断面に対する被走査面の傾き角が変化しても、走査レンズ系の大型化やコストアップなしに複数ビームの主走査方向の倍率を揃えることが可能なマルチビーム走査システムを提供する。【解決手段】 走査レンズ系(SL)は、主走査方向(Y)の倍率が副走査方向(X)の位置に応じて変化する歪曲特性を有する。スリット板(ST)は、レーザダイオードアレイ(LD)から発せられたレーザビーム(LB1,LB2)を光束規制し、レーザビーム(LB1,LB2)間の主走査方向(Y)の倍率差が小さくなるように、副走査方向(X)に平行偏芯しているか、平行偏芯可能に構成されている。
請求項(抜粋):
ビームを発生する複数の光源と、その各光源から発せられたビームを光束規制する絞りと、光束規制された各ビームを偏向させる偏向手段と、偏向された各ビームが副走査方向に所定の間隔をあけた状態で被走査面上を主走査方向に実質的な等速で走査するように作用する走査レンズ系と、を備えたマルチビーム走査システムであって、主走査方向の倍率が副走査方向の位置に応じて変化する歪曲特性を前記走査レンズ系が有し、各ビーム間の主走査方向の倍率差が小さくなるように、前記絞りが副走査方向に平行偏芯しているか、あるいは平行偏芯可能に構成されていることを特徴とするマルチビーム走査システム。
IPC (3件):
G02B 26/10
, B41J 2/44
, H04N 1/113
FI (4件):
G02B 26/10 B
, G02B 26/10 E
, B41J 3/00 D
, H04N 1/04 104 A
Fターム (25件):
2C362AA11
, 2C362AA14
, 2C362AA42
, 2C362AA45
, 2C362AA47
, 2C362BA58
, 2C362BA86
, 2C362BA90
, 2C362BB14
, 2C362BB22
, 2H045AA01
, 2H045BA22
, 2H045BA32
, 2H045BA41
, 2H045CA14
, 5C072AA03
, 5C072BA01
, 5C072CA06
, 5C072DA02
, 5C072DA21
, 5C072HA02
, 5C072HA06
, 5C072HA13
, 5C072JA07
, 5C072TA05
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