特許
J-GLOBAL ID：200903023283975857
電子線露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-193799
公開番号（公開出願番号）：特開平5-036595
出願日： 1991年08月02日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：
【要約】【目的】 集積回路のパターン形成技術に係わり,可変矩形型電子線露光装置を用いて,段差を和らげ,なだらかな非矩形パターンを精度良く形成する方法を得ることを目的とする。【構成】 可変矩形型電子線露光装置を用い,非矩形パターン1を複数個の矩形パターン2に分割し,矩形パターン2内をショットを繋いで露光する電子線露光方法において,矩形パターン2のエッジ3が常に非矩形パターン1の斜辺4より突出しないように分割し,斜辺4に近接する矩形ショット5には,その他の矩形パターン2より高い露光量を与えるように,また,前記高い露光量を与える手段として,2回以上のショットを重ねて露光するように,或いは,矩形パターン2のエッジ3が常に非矩形パターン1の斜辺4より突出するように分割し,斜辺を含む矩形ショット6には,その他の矩形パターン2より低い露光量を与えるように構成する。
請求項（抜粋）：
可変矩形型電子線露光装置を用い,非矩形パターン(1) を複数個の矩形パターン(2) に分割し,該矩形パターン(2) 内をショットを繋いで露光する電子線露光方法において,該矩形パターン(2) のエッジ(3) が常に該非矩形パターン(1) の斜辺(4)より突出しないように分割し,該斜辺(4) に近接する矩形ショット(5) には,その他の矩形パターン(2) より高い露光量を与えることを特徴とする電子線露光方法。
FI (2件)：
H01L 21/30 341 E
, H01L 21/30 341 M
