特許

J-GLOBAL ID：200903023284963798

光記録媒体の製造方法

発明者： 上田 裕 ,  八代 徹
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 小松 秀岳 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-103644
公開番号（公開出願番号）：特開平5-073969
出願日： 1991年04月10日
公開日（公表日）： 1993年03月26日
要約：

【要約】【目的】 光吸収層内周端の位置制御の精度を向上させることによって記録容量の低下を少なくし、安定した情報の読み出しができる光記録媒体を製造すること。【構成】 ROM部を形成すべき円形基板の中心部を残して外周部のみにスピンコーティングにより光吸収層を形成し、次に基板全面に反射層を形成する光記録媒体の製造方法において、スピンコーティングする前に、中心部にマスクをし、外周部のみに紫外線を照射することによって、スピンコートする塗布液に対する親和性を変化させることによって、コーティング領域の境界を鮮鋭に形成する方法。

請求項（抜粋）：

ROM部を形成すべき円形基板の中心部を残して外周部のみに、直接又は他の層を介して、スピンコーティングにより光吸収層を形成し、次に、この円形基板全面に、直接又は他の層を介して反射層を形成することによって、中心部にROM部を有する光記録媒体を製造する方法において、スピンコーティングをする前に、基板上の光吸収層を設ける領域とそれ以外の領域の塗布液に対する濡れ性が異なるような処理を施すことを特徴とする光記録媒体の製造方法。