特許

J-GLOBAL ID：200903023294475813

タイル及びその製造方法

発明者： 小林 秀紀 ,  中西 義行 ,  中島 靖
出願人/特許権者： 東陶機器株式会社
代理人 (1件)： 小山 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-209314
公開番号（公開出願番号）：特開2001-058889
出願日： 1999年08月23日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
要約：

【要約】【課題】 光触媒の固定化は、基材や釉薬層を高温焼成で溶融することが必須であり、基材等の材質は、高温焼成の温度に耐え得るものでなければならなかった。そのため、焼成時間がかかっていた。低温焼成、急速加熱焼成が可能で、且つ密着性、高強度、高い分解機能および親水性の機能向上を図る。【解決手段】 基材または釉薬よりも低いゼーゲルで現わされる材料組成を選定、調合することにより、基材または釉薬の融合面から光触媒機能層の表面に至るまで、光触媒が全体に均一に分散、固定化させる。

請求項（抜粋）：

基材表面または基材上に施された釉薬層表面に、光触媒機能層が形成されているタイルであって、前記光触媒機能層は、Na2O、K2O等のアルカリ金属酸化物、CaO、MgO等のアルカリ土類金属酸化物、SiO2、Al2O3、などの原料の内いずれか1種以上が80%以下含有し、前記光触媒機能層のゼーゲル値は、前記層の下に位置する基材または釉薬層のゼーゲル値以下であることを特徴とするタイル。

IPC (4件)：

C04B 41/85 ,  B01J 35/02 ZAB ,  B01J 37/02 301 ,  C04B 41/89

FI (4件)：

C04B 41/85 Z ,  B01J 35/02 ZAB J ,  B01J 37/02 301 M ,  C04B 41/89 C