特許
J-GLOBAL ID：200903023309836397
スパッタ成膜装置及びこれを用いて作製したマスタディスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷 義一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-377775
公開番号（公開出願番号）：特開2003-183826
出願日： 2001年12月11日
公開日（公表日）： 2003年07月03日
要約：
【要約】【課題】 膜厚均一性に優れた成膜を可能とするスパッタ成膜装置及びこれを用いて作製したマスタディスクを提供すること。【解決手段】 スパッタ粒子の指向性を制御するためのスパッタ粒子指向性制御部を、ターゲット側に配置される第1のアパーチャ11bと、成膜基板側に配置される第2のアパーチャ11aと、第1及び第2のアパーチャ側に開口端を有する中空体12とから構成し、中空体12の開口端を、第1及び第2のアパーチャ11a、11bの開口部に対応するように配置して、第1のアパーチャ11bの開口部から入射したスパッタ粒子が中空体12を通過して第2のアパーチャ11aの開口部から射出されてスパッタ成膜をおこなう構成とした。これにより、ターゲットからのスパッタ粒子の指向性がシャープになり、スパッタ粒子の通過する開口を制御して基板上に均一な成膜が可能となる。
請求項（抜粋）：
成膜基板を公転させながらターゲットに対して相対的回転運動を行なわせるための成膜基板回転手段と、スパッタ粒子の前記成膜基板に対する指向性を制御するためのスパッタ粒子指向性制御手段とを備え、該スパッタ粒子指向性制御手段は、前記ターゲット側に配置される第1のアパーチャと、前記成膜基板側に配置される第2のアパーチャと、前記第1及び第2のアパーチャの各々に対向する開口端を備える中空体とから構成されており、前記第1及び第2のアパーチャは、前記ターゲット表面の所望の領域に対応する開口部を有し、該開口部が相互に対向するように所望の間隔を隔てて配置されており、前記中空体は、前記開口端が、前記第1及び第2のアパーチャの前記開口部に対応するように配置され、前記第1のアパーチャの開口部から入射したスパッタ粒子が前記中空体を通過して前記第2のアパーチャの開口部から射出されてスパッタ成膜をおこなうことを特徴とするスパッタ成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/34 T
, G11B 5/851
4K029AA06
, 4K029BA06
, 4K029BC06
, 4K029BD11
, 4K029CA05
, 4K029JA02
, 4K029JA08
, 5D112AA04
, 5D112BD03
, 5D112FA04
