エピタキシャル反応器、支持台およびガス・フロー装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：谷義一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-511318
公開番号（公開出願番号）：特表平9-505798
出願日： 1995年09月14日
公開日（公表日）： 1997年06月10日
要約：

【要約】平坦なディスク形支持台を有するエピタキシャル反応器は、加工すべき材料の対応する複数のディスク形ウエハ(18a〜h)を収容するための複数のくぼみ(16a〜h)を有する回転可能な支持台・ディスク(14)を含有する平坦な、実質的に管状の石英製反応チャンバー(12)と、上記実質的に管状のチャンバー(12)を包囲している、流動する冷却剤液体(28)で満たされたタンク(26)と、上記支持台・ディスク(14)に平行な上記タンク(26)の下部にある上記反応チャンバー(12)の外側に設けられ、上記第1のインダクター(90)の各ターンと上記支持台・ディスクとの距離を改変するための手段(118)を有する、実質的に平坦なスパイラルの形態である第1の供給インダクター(90)と、可能であれば上記第1のインダクター(90)のターンに平行に設けられ、かつ密接に連結されたターンによって形成される第2のインダクター(102)と、可能な限り公知の技術により上記第1のインダクター(90)の各ターンを外部の負荷に選択的に連結するための、あるいは上記第2のインダクターの各ターンを選択的に閉じるための手段(158)と、上記チャンバーの壁(完全な金メッキ)の全てに最大の反射を付与するための手段と、可能な限り上記基体の上に配置された上記チャンバーの表面にさらに連続的に可変性の反射も付与するための手段(160)とを備える。

請求項（抜粋）：

平坦なディスク形支持台(14)を備え、該支持台(14)が加工すべき材料のウエハ(18)用の複数の台座(16)を有し、反応チャンバー(12)に収容されており、該反応チャンバー(12)が、前記ディスク形支持台(14)の端面に対して実質的に平行に設けられた2つの大きな壁を有する扁平にした管の形状を有し、前記支持台がその主軸の回りを回転し、かつ、インダクター(90)による誘導により加熱される改善されたエピタキシャル反応器であって、前記インダクター(90)が前記支持台(14)に可能な限り接近して、しかし前記反応チャンバー(12)の外側に設置されており、前記支持台(14)の端面に対して平行な平坦なスパイラルから構成されることを特徴とする改善されたエピタキシャル反応器。

IPC (5件)：

C30B 25/10 , C23C 16/44 , C30B 25/12 , C30B 25/14 , H01L 21/205

FI (5件)：

C30B 25/10 , C23C 16/44 H , C30B 25/12 , C30B 25/14 , H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (17件)

特開平2-279588
特開平2-279588
特開平3-095924

全件表示

前のページに戻る