特許
J-GLOBAL ID：200903023323480317
マグネトロンスパッタ用磁気回路
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森崎 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-340513
公開番号（公開出願番号）：特開平7-157875
出願日： 1993年12月08日
公開日（公表日）： 1995年06月20日
要約：
【要約】【目的】 厚さ及び組成分布が均一なスパッタ膜を生成することのできるマグネトロンスパッタ用磁気回路を提供すること。【構成】 3枚以上の、扇形あるいは三角形の希土類永久磁石を組み合わせて、円板状あるいは多角形状とし、希土類永久磁石の磁化方向を、円板状あるいは多角形状の中心に向かう方向、または、各扇形あるいは各三角形の中心線に平行な方向となるように作製したマグネトロンプラズマ用永久磁石60、を用いたマグネトロンスパッタ用磁気回路において、円板状(あるいは多角形状)のマグネトロンプラズマ用永久磁石60の半径(あるいは中心からひとつの頂点までの長さ)(r<SB>1</SB>) を、マグネトロンプラズマ用永久磁石の上に設けるターゲット62の半径(r<SB>2</SB>) よりも小さくし、特に、0.5<r<SB>1</SB>/r<SB>2</SB>≦0.9となるようにする。
請求項（抜粋）：
3枚以上の、扇形の希土類永久磁石を組み合わせて、円板状とし、前記希土類永久磁石の磁化方向を、前記円板状の中心に向かう方向、または、各扇形の中心線に平行な方向となるように作製したマグネトロンプラズマ用永久磁石を用いたマグネトロンスパッタ用磁気回路において、前記円板状のマグネトロンプラズマ用永久磁石の半径(r1) を、前記マグネトロンプラズマ用永久磁石の上に設けるターゲットの半径(r2) よりも小さくしたことを特徴とするマグネトロンスパッタ用磁気回路。
IPC (5件)：
C23C 14/35
, G11B 5/85
, G11B 11/10 541
, H01F 7/02
, H05H 1/46
