特許
J-GLOBAL ID：200903023323929268
廃プリント基板等の処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三浦 光康
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-207213
公開番号（公開出願番号）：特開平11-036020
出願日： 1997年07月15日
公開日（公表日）： 1999年02月09日
要約：
【要約】【課題】 本発明は金、パラジウム、ロジウム、白金等の貴金属を効率よく回収することができるとともに、金属を溶解することができる酸で溶解できないガラエポやポリミド等を非溶解物として回収することができる廃プリント基板等の処理方法を得るにある。【解決手段】 廃プリント基板等を金属を溶解することができる硝酸、塩酸、硫酸等の酸に投入して溶解する金属溶解工程と、この金属溶解工程で発生する蒸気やガスを無害化処理するガス等の無害化処理工程と、前記金属溶解工程で溶解金属を含む金属溶解酸にアリカリを加えてPHを4〜5にして析出されるPt、Pd、Rh、Os、Ru、Au等の貴金属等を濾過して回収する貴金属等の回収工程と、前記金属溶解工程で溶解されないガラエポやポリミド等の非溶解物を除去する非溶解物除去工程とで廃プリント基板等の処理方法を構成している。
請求項（抜粋）：
廃プリント基板等を金属を溶解することができる硝酸、塩酸、硫酸等の酸に投入して溶解する金属溶解工程と、この金属溶解工程で発生する蒸気やガスを無害化処理するガス等の無害化処理工程と、前記金属溶解工程で溶解金属を含む金属溶解酸にアリカリを加えてPHを4〜5にして析出されるPt、Pd、Rh、Os、Ru、Au等の貴金属等を濾過して回収する貴金属等の回収工程と、前記金属溶解工程で溶解されないガラエポやポリミド等の非溶解物を除去する非溶解物除去工程とを含むことを特徴とする廃プリント基板等の処理方法。
IPC (4件)：
C22B 7/00
, B09B 3/00
, B09B 5/00 ZAB
, C22B 3/44
C22B 7/00 H
, B09B 3/00 304 J
, B09B 5/00 ZAB Q
, C22B 3/00 Q
