特許

J-GLOBAL ID：200903023325843271

薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者： 飯島 淳 ,  松崎 幹男
出願人/特許権者： ティーディーケイ株式会社
代理人 (1件)： 阿部 美次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-187167
公開番号（公開出願番号）：特開平7-021521
出願日： 1993年06月30日
公開日（公表日）： 1995年01月24日
要約：

【要約】【目的】 基体表面の粗面化を生じることなく、基体表面の残留炭素及びグレイン間の吸着水分もしくは酸素を除去し、金属酸化物絶縁膜の結晶化及び剥離等を防止する。【構成】 炭素を含有する基体1上に金属酸化物絶縁膜2をスパッタ法で形成する前に、基体1を10-2Torr以下の真空気中で200°C〜400°Cの温度条件で熱処理する。

請求項（抜粋）：

炭素を含有する基体上に金属酸化物絶縁膜をスパッタ法で形成した後、前記金属酸化物絶縁膜上に磁性膜及び導体コイル膜を含む薄膜磁気回路を形成する工程を含む薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記金属酸化物絶縁膜を形成する前に、前記基体を10-2Torr以下の真空気中で200°C〜400°Cの温度条件で熱処理する工程を含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。