特許

J-GLOBAL ID：200903023330033156

レーザ加工光学系並びにレーザ出力モニタ光学系

発明者： 森田 浩之
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-188873
公開番号（公開出願番号）：特開2001-018084
出願日： 1999年07月02日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
要約：

【要約】【課題】従来の主に同時多点加工が可能なレーザビーム分割光学系において、分割用の誘電多層膜ミラーに反射率の偏光依存特性があるため、レーザビームの偏光成分比率の変化があると、分割比率が変動し同時多点加工時の高い加工精度が得られなかった。【解決手段】レーザ発振器から出力されたレーザ出力ビームを分割ミラー1により分割し、分割された分割パワーの高い一方のビーム中に低反射率調整用ミラー2を挿入する。分割ミラー1のP波およびS波の透過率の比と、分割ミラー1で反射し調整用ミラー2を透過するP波及びS波の透過率の比を等しくなるように分割ミラーおよび調整用ミラーの反射率や角度を調整することにより、元のレーザビームの偏光成分が変化しても分割比率は一定に保たれる。

請求項（抜粋）：

レーザ発振器からのレーザ出力ビームを、第1の誘電体ミラーによって特定の分割比率に2分割し、分割されたビームのそれぞれを異なる加工光学系に導いて同時多点加工を可能にするレーザ加工光学系であって、2分割された一方のビームを第2の誘電体ミラーに透過又は反射させた後加工光学系に導くことを特徴とするレーザ加工光学系。

IPC (3件)：

B23K 26/06 ,  G02B 26/02 ,  G02B 27/28

FI (3件)：

B23K 26/06 C ,  G02B 26/02 E ,  G02B 27/28 Z

Fターム (12件)：

2H041AA02 ,  2H041AA26 ,  2H041AB16 ,  2H041AC01 ,  2H099AA00 ,  2H099BA17 ,  2H099CA01 ,  4E068CB10 ,  4E068CC00 ,  4E068CD03 ,  4E068CD08 ,  4E068CD11

引用特許：

審査官引用 (2件)

• レーザ光学装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-318070   出願人：日本電気株式会社
• 減光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-000259   出願人：松下電器産業株式会社