特許

J-GLOBAL ID：200903023333168125

2-ヘテロ原子置換シクロペンタジエニル含有金属錯体及びオレフィン重合方法

発明者： クロシン,シャージー ,  クルパー,ウィリアム ジェイ ジュニア ,  ニクラス,ピーター エヌ ,  パットン,ジェーソン ティ ,  ウィルソン,デビッド アール
出願人/特許権者： ザ ダウ ケミカル カンパニー
代理人 (1件)： 斉藤 武彦 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-509760
公開番号（公開出願番号）：特表2000-516608
出願日： 1997年07月28日
公開日（公表日）： 2000年12月12日
要約：

【要約】本発明はヘテロ原子置換シクロペンタジエニル-含有リガンド、これらリガンドを含有する金属錯体、これら金属錯体からなる触媒成分からつくられた触媒系に関する。これらの金属錯体はCpの3位にヘテロ原子-Cp結合又は環ヘテロ原子-Cp結合を含有する。好ましい金属錯体においてこのリガンドは2-ヘテロ原子置換インデニル基である。オレフィン重合用のこの触媒系は高温で用いることができ、高活性であり、高分子量のポリマーを生成する。

請求項（抜粋）：

式:(式中、Mは、元素の周期律表の3-13族の1、ランタニド又はアクチニドからの金属であり、それは+2、+3又は+4形式酸化状態にあり、そして5個の置換基、即ち(RA)j-T(但し、jは0、1又は2である)、RB、RC、RD及びZ(但し、RA、RB、RC及びRDはR基である)を有する環状の非局在化π-結合リガンド基である1個のシクロペンタジエニル(Cp)基にπ結合しており、さらにTは、jが1又は2であるとき、Cp環そしてRAに共有結合しているヘテロ原子であり、さらにjが0のとき、TはF、Cl、Br又はIであり;jか1のとき、TはO又はS、又はN又はPであり、そしてRAはTへの二重結合を有し;jが2のとき、TはN又はPであり、さらにRAは、それぞれの場合独立して、水素であるか、又はヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ハロゲン置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリルヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ、ジ(ヒドロカルビル)アミノ、ヒドロカルビルオキシである1-80個の非水素原子を有する基であり、各RAは任意にそれぞれの場合独立して1-20個の非水素原子を有するヒドロカルビルオキシ、ヒドロカルビルシロキシ、ヒドロカルビルシリルアミノ、ジ(ヒドロカルビルシリル)アミノ、ヒドロカルビルアミノ、ジ(ヒドロカルビル)アミノ、ジ(ヒドロカルビル)ホスフィノ、ヒドロカルビルスルフィド、ヒドロカルビル、ハロゲン置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル又はヒドロカルビルシリルヒドロカルビル又は1-20個の非水素原子を有する非干渉基である1個以上の基により置換されていてもよく;そしてRB、RC及びRDのそれぞれは、水素であるか、又はヒドロカルビル、ハロゲン置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル、ヒドロカルビルシリルヒドロカルビルである1-80個の非水素原子を有する基であり、RB、RC及びRDのそれぞれは、任意にそれぞれの場合独立して1-20個の非水素原子を有するヒドロカルビルオキシ、ヒドロカルビルシロキシ、ヒドロカルビルシリルアミノ、ジ(ヒドロカルビルシリル)アミノ、ヒドロカルビルアミノ、ジ(ヒドロカルビル)アミノ、ジ(ヒドロカルビル)ホスフィノ、ヒドロカルビルスルフィド、ヒドロカルビル、ハロゲン置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル又はヒドロカルビルシリルヒドロカルビルであるか、又は1-20個の非水素原子を有する非干渉基である1個以上の基により置換されていてもよく;又は任意に、RA、RB、RC及びRDの2個以上は、互いに共有結合してそれぞれのR基について1-80個の非水素原子を有する1個以上の縮合環又は環系を形成し、1個以上の縮合環又は環系は、置換されていないか、又はそれぞれの場合独立して1-20個の非水素原子を有するヒドロカルビルオキシ、ヒドロカルビルシロキシ、ヒドロカルビルシリルアミノ、ジ(ヒドロカルビルシリル)アミノ、ヒドロカルビルアミノ、ジ(ヒドロカルビル)アミノ、ジ(ヒドロカルビル)ホスフィノ、ヒドロカルビルスルフィド、ヒドロカルビル、ハロゲン置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルオキシ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルアミノ置換ヒドロカルビル、ヒドロカルビルシリル又はヒドロカルビルシリルヒドロカルビル、又は1-20個の非水素原子を有する非干渉基である1個以上の基により置換されており;Zはσ結合を介してCp及びMの両者に結合している2価の基であり、Zは硼素であるか又は元素の周期律表の14族の一員であり、さらに窒素、燐、硫黄又は酸素からなり;Xは、環状の非局在化π結合リガンド基であるリガンドの群を除く、60個以内の原子を有するアニオン性又はジアニオン性リガンド基であり;X’は、それぞれの場合独立して20個以内の原子を有する中性のルイス塩基配位結合性化合物であり;pは0、l又は2であり、そしてXがアニオン性リガンドであるときMの形式酸化状態より2少なく;Xがジアニオン性リガンドであるとき、pは1であり;そしてqは0、1又は2である)に相当する金属錯体。

IPC (3件)：

C07F 17/00 ,  C07F 7/28 ,  C08F 4/645

FI (3件)：

C07F 17/00 ,  C07F 7/28 G ,  C08F 4/645