特許
J-GLOBAL ID:200903023333736646

SiC上のPt電極への配線構造

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 須田 正義
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-168736
公開番号(公開出願番号):特開平9-022922
出願日: 1995年07月04日
公開日(公表日): 1997年01月21日
要約:
【要約】【目的】 Pt電極に耐熱性のある配線材を設けて高温環境下で使用したときに、Pt電極の抵抗性を悪化させず、かつPt電極がSiCから剥離しない。【構成】 SiC11上に形成されたPt電極12に配線する構造である。Pt電極12上にAu層13とTiNxのような窒化物層14とがこの順に形成され、この窒化物層14にMo,Wのような高融点金属又はそのケイ化物からなる配線材15が接続される。
請求項(抜粋):
SiC(11)上に形成されたPt電極(12)に配線する構造において、前記Pt電極(12)上にAu層(13)と窒化物層(14)とがこの順に形成され、前記窒化物層(14)に高融点金属又はそのケイ化物からなる配線材(15)が接続されたことを特徴とするSiC上のPt電極への配線構造。
IPC (3件):
H01L 21/60 301 ,  H01L 21/3205 ,  H01L 29/43
FI (3件):
H01L 21/60 301 P ,  H01L 21/88 M ,  H01L 29/46 Z

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