特許

J-GLOBAL ID：200903023333934278

光窓の曇防止装置およびプラズマ処理装置

発明者： 熊谷 浩洋 ,  米山 詩麻夫
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-344996
公開番号（公開出願番号）：特開平6-069172
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年03月11日
要約：

【要約】【目的】 光窓表面に曇が生じることを防止することのできる光窓の曇防止装置およびプラズマ処理装置を提供する。【構成】 エキシマレ-ザ光源11はウェハ3の斜め上方のチャンバ1外の所定の位置に配置され、レンズ系15、光導入窓14を介して光がチャンバ1内に導入されるようになっている。光導入管13内には、透孔17を有する固定板18と多数の透孔20を有する回動自在の回転板19が設けられている。回動板19と光導入窓14との間には、パ-ジガスを導入する導入口23とこれを排気する排気口24とが設けられている。

請求項（抜粋）：

処理ガスが供給され、被処理体を処理するチャンバと、このチャンバ内の前記被処理体を望む位置に設けられた光窓と、この光窓と前記被処理体との間に設けられた、光透過孔部を有する遮光板と、この遮光板と、前記光窓を覆うとともに、前記チャンバに接続された光導入室と、前記光導入室に設けられ、前記光窓と前記遮光板との間に不活性ガスを導入する導入口と、前記光導入室に設けられ、前記光窓と前記遮光板との間を排気する排気口とを具備したことを特徴とする光窓の曇防止装置。

IPC (3件)：

H01L 21/302 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭59-170272
  
• 特開昭59-074633