特許

J-GLOBAL ID：200903023341239619

超高精度分析装置へのガス供給方法及び装置

発明者： モーリス・モロザイ ,  ジエラル・ロワソー ,  カトリーヌ・ロンジユ
出願人/特許権者： ル・エール・リクイツド・ソシエテ・アノニム・プール・ル・エチユド・エ・ル・エクスプルワテシヨン・デ・プロセデ・ジエオルジエ・クロード
代理人 (1件)： 八木田 茂 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-251486
公開番号（公開出願番号）：特開平5-180733
出願日： 1991年09月30日
公開日（公表日）： 1993年07月23日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 分析装置へのガス供給方法を提供すること。【構成】 分析すべきガスのラインI,ゼロガスのラインII及び較正ガスのラインIII が、一定の公称流量Q1,Q0,Qcを供給する音速で作動する制限部4,15,23を及び流量調整器9,17,25を備えた排出分流管を下流にそれぞれ備え、第1ラインと第2ラインの公称流量Q0,Q1が、分析装置に供給される所定流量Qaより大きく、その結果較正及び分析の各段階において、装置の回路の全体が、ラインの公称ガス流及び/又は他のラインからの循環ガス流の一部分によつて常に掃気される。

請求項（抜粋）：

a)第1ラインを経て、分析すべきガス、b)第2ラインを経て、分析すべきガスの精製により調製された純ガス、及びc)第3ラインを経て、当初は分析すべきガスより大量の残存ガスの痕跡を有する、純ガスによつて希釈された少くとも1種の較正ガス、の定められ流量を分析装置の入口ラインに順次供給する段階を有し、3本のラインの下流部が入口ラインに接続する種類の超高精度の痕跡分析装置へのガス供給方法において、3本のラインの上流部分には、それぞれ一定流量のガスが常に流れ、各ラインの中間部分には、制御可能な流量調整手段を備えた排出分流が設けられ、第1ライン及び第2ラインの一定流量が、所定の流量より大きいこと、及び前記a)及びb)の各段階のために、一つの段階に対応するライン内の過剰流量の第1部分が組み合わされた排出分流を通って排出され、前記ガスの過剰流量の第2部分及び第3部分が他の2本のラインの各下流部分を循環し、過剰流量自体及び循環流量の第2部分と第3部分の合計が対応する排出分流によつて排出されるように、流量調整手段が制御されることを特徴とする方法。