特許

J-GLOBAL ID：200903023346109730

平坦化膜形成用塗布液

発明者： 井口 悦子 ,  廣崎 貴子 ,  小林 政一
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-177524
公開番号（公開出願番号）：特開2000-007982
出願日： 1998年06月24日
公開日（公表日）： 2000年01月11日
要約：

【要約】【課題】 半導体デバイスの集積化、微細化に十分対応しうる平坦化能力を有する新規な平坦化膜形成用塗布液を提供する。【解決手段】 ヒドロキシアルキル基又はアルコキシアルキル基あるいはその両方で置換されたアミノ基を有する含窒素化合物の有機溶剤溶液からなる平坦化膜形成用塗布液とする。

請求項（抜粋）：

ヒドロキシアルキル基又はアルコキシアルキル基あるいはその両方で置換されたアミノ基を有する含窒素化合物の有機溶剤溶液からなる平坦化膜形成用塗布液。

IPC (3件)：

C09D161/26 ,  H01L 21/312 ,  H01L 21/768

FI (4件)：

C09D161/26 ,  H01L 21/312 A ,  H01L 21/90 Q ,  H01L 21/90 S

Fターム (19件)：

4J038DA141 ,  4J038DA161 ,  4J038DA171 ,  4J038DA191 ,  4J038JA19 ,  4J038JA20 ,  4J038JA21 ,  4J038JA37 ,  4J038KA06 ,  4J038NA12 ,  4J038NA21 ,  4J038PB09 ,  4J038PB11 ,  4J038PC05 ,  5F033EA05 ,  5F033EA29 ,  5F058AC10 ,  5F058AF04 ,  5F058AH02

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 平坦化膜の形成方法およびその形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-026105   出願人：ソニー株式会社
• 特開昭61-254653