特許
J-GLOBAL ID：200903023346547788
液濃度コントロール方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-003763
公開番号（公開出願番号）：特開平6-216100
出願日： 1993年01月13日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：
【要約】【目的】 半導体や液晶の製造工程の中の洗浄やウエットエッチング工程に用いられる液の濃度コントロール方法において、液濃度値が目標値を越えることなく、必要性能を満足するとともに設計段階にてコントロール精度や時間を明確にする液濃度コントロール方法を提供することを目的としている。【構成】 液濃度安定時間をコントロールシーケンスに組み込んでいるため、液濃度値は目標値を越えることなく、設計段階にて性能を明確にすることができる。
請求項（抜粋）：
液槽の液量と循環流量から設定される液濃度安定時間をシーケンスに組み込むことを特徴とする液濃度コントロール方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/306
