特許

J-GLOBAL ID：200903023359885119

電子部品のプラズマクリーニング装置及びプラズマクリーニング方法

発明者： 土師 宏
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-214283
公開番号（公開出願番号）：特開平11-054487
出願日： 1997年08月08日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：

【要約】【課題】 真空チャンバ内壁の汚染物の堆積が進行して真空排気時間が増大することがなく、タクトタイムを維持して生産性を向上させることができる電子部品のプラズマクリーニング装置を提供することを目的とする。【解決手段】 真空チャンバ内でプラズマを発生させることによりワークの表面の汚染物を除去するプラズマクリーニング装置において、真空チャンバの内壁に着脱可能なシールド部材を設ける。除去された汚染物が真空チャンバの内壁に付着堆積すると、汚染物に吸着される水分・ガスの量が増大し真空排気時間が長くなるため、処理サイクル毎に真空到達時間Tを計測し、Tが設定時間T0を超えた場合にはシールド部材の清掃交換を指示するようにすることにより、汚染物が限度以上に堆積することがなく、したがって真空排気時間の増加を一定限度内に抑制してタクトタイムを維持することができる。

請求項（抜粋）：

真空チャンバと、真空チャンバ内に設けられた電極と、真空チャンバ内を排気する真空排気装置と、真空チャンバ内にプラズマ発生用ガスを供給するガス供給装置と、電極に高周波電圧を印加する高周波電源と、真空チャンバ内の真空度を計測する真空度計測手段と、前記真空チャンバ内を真空排気するときの真空度計測結果より真空チャンバのメンテナンス時期を判断する判断手段と、前記判断手段からの指令に基づいて真空チャンバのメンテナンスを指示する指示手段とを備えたことを特徴とする電子部品のプラズマクリーニング装置。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/304 341

FI (2件)：

H01L 21/302 N ,  H01L 21/304 341 D

引用特許：

審査官引用 (2件)

• スパッタリング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-262855   出願人：新日本製鐵株式会社
• 表面処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-217251   出願人：松下電器産業株式会社