特許
J-GLOBAL ID：200903023366969590
水溶性フォトレジストの硬膜処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-169590
公開番号（公開出願番号）：特開平7-128866
出願日： 1993年06月14日
公開日（公表日）： 1995年05月19日
要約：
【要約】【目的】 エッチング時間が長くなってもレジスト膜の欠けを生じることがなく、バーニング時間を長くしなくても耐エッチング性及び基板との密着性の良好なレジスト膜を形成できる硬膜処理方法を提供する。【構成】 現像処理部14で現像処理された基板30を硬膜液38中に浸漬させた後、水洗部18で水洗し、水切り部20で水切りした後、紫外線照射部22で基板に紫外線を照射し、その後にバーニング処理部24で基板を加熱処理する。
請求項（抜粋）：
表面に現像処理を終えた水溶性フォトレジスト膜が被着された基板を硬膜液中に浸漬させ又は基板に硬膜液をスプレイしもしくは垂れ掛け塗布した後、水洗し、次いで水切りした後、基板に対し加熱処理を施すようにする水溶性フォトレジストの硬膜処理方法において、基板に対し加熱処理を施す前にもしくは加熱処理を施す際に、基板に紫外線を照射することを特徴とする、水溶性フォトレジスト膜の硬膜処理方法。
IPC (3件)：
G03F 7/40 501
, H01J 29/07
, H01L 21/027
