特許

J-GLOBAL ID：200903023371759943

化学増幅型レジスト用光酸発生剤

発明者： 飯田 俊哉 ,  浅子 佳延 ,  三井 均
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
代理人 (1件)： 原 謙三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-371111
公開番号（公開出願番号）：特開2001-183821
出願日： 1999年12月27日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
要約：

【要約】【課題】 光が照射されることによって発生する酸が強酸であり、かつ、光酸発生剤および上記酸がレジストレジンとの相溶性に共に優れている化学増幅型レジスト用光酸発生剤を提供する。【解決手段】 光酸発生剤は、X+ (カチオン)・Y- (アニオン)の構造を有するホウ酸塩を含んでおり、上記Y- で表されるアニオン性ホウ酸イオンが、一般式『〔BR1 m R2 4-m 〕- 』(式中、R1 は電子吸引性基を有するアリール基を示し、R2 は有機基、ハロゲン基または水酸基を示し、mは1〜4の整数を示す)で表される構造を有している。上記X+ で表されるカチオンは、一般式『〔(R3 )x M〕+ 』(式中、R3 は有機基を示し、Mは周期表のVb族、VIb族、 VIIb族、 IIIa族、IVa族、Va族、VIa族、 VIIa族およびVIII族に属する元素から選ばれる元素を示し、xはy+1を示し、該yはMの価数を示す)で表される構造を有していることが好ましい。

請求項（抜粋）：

X+ (カチオン)・Y- (アニオン)の構造を有するホウ酸塩を含む化学増幅型レジスト用光酸発生剤であって、上記Y- で表されるアニオン性ホウ酸イオンが、一般式(1)〔BR1 m R2 4-m 〕- ......(1)(式中、R1 は電子吸引性基を有するアリール基を示し、R2 は有機基、ハロゲン基または水酸基を示し、mは1〜4の整数を示す)で表される構造を有することを特徴とする化学増幅型レジスト用光酸発生剤。

IPC (2件)：

G03F 7/004 503 ,  C07F 5/02

FI (2件)：

G03F 7/004 503 A ,  C07F 5/02 A