特許

J-GLOBAL ID：200903023371984904

X線分析装置

発明者： 田口 武慶
出願人/特許権者： 株式会社リガク
代理人 (1件)： 横川 邦明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-357582
公開番号（公開出願番号）：特開2005-121511
出願日： 2003年10月17日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：

【課題】 2次元X線回折像を高速且つ高精度に作成できるX線分析装置を提供する。【解決手段】 X線源17から放射されたX線を試料Sに照射すると共に試料Sで回折したX線を2次元CCDセンサ22によって検出するX線分析装置16である。このX線分析装置16は、2次元CCDセンサ22を平面的に走査移動させる走査駆動装置24と、CCDセンサ22がその構成要素である画素の1つの幅に相当する距離を移動する毎にそれに同期させてCCDセンサ22における電荷転送信号を発生させる電荷転送信号発生装置とを有する。CCDセンサ22の電荷転送タイミングとその走査移動距離が同期しているので、個々の回折角度におけるX線強度を個々のCCD画素によって正確に蓄積できる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

X線源から放射されたX線を試料に照射すると共に該試料で回折したX線を半導体X線検出手段によって検出するX線分析装置において、 前記半導体X線検出手段を平面的に走査移動させる走査移動手段と、 前記半導体X線検出手段が前記半導体X線検出手段の構成要素である画素の1つの幅に相当する距離を移動する毎に、同期させて前記半導体X線検出手段における電荷転送信号を発生させる電荷転送信号発生手段と を有することを特徴とするX線分析装置。

IPC (4件)：

G01N23/207 ,  G01T1/00 ,  G01T1/24 ,  G21K1/06

FI (4件)：

G01N23/207 ,  G01T1/00 B ,  G01T1/24 ,  G21K1/06 L

Fターム (24件)：

2G001AA01 ,  2G001BA18 ,  2G001CA01 ,  2G001DA01 ,  2G001DA09 ,  2G001DA10 ,  2G001EA01 ,  2G001EA09 ,  2G001FA06 ,  2G001HA13 ,  2G001HA15 ,  2G001JA06 ,  2G001JA11 ,  2G001JA16 ,  2G001KA08 ,  2G001LA20 ,  2G001SA02 ,  2G088EE29 ,  2G088EE30 ,  2G088FF02 ,  2G088GG21 ,  2G088JJ05 ,  2G088JJ22 ,  2G088KK32

引用特許：

出願人引用 (1件)

• X線測定方法及びX線装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-305845   出願人：理学電機株式会社