特許

J-GLOBAL ID：200903023375121455

フォトマスク用ペリクル

発明者： 芦田 逸治
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 清水 守 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-211893
公開番号（公開出願番号）：特開平5-232690
出願日： 1991年08月23日
公開日（公表日）： 1993年09月10日
要約：

【要約】【目的】 ペリクルフレーム固定用接着剤の固形化、ガス化によるマスクパターン上へのパーティクルの付着や、生長性の異物の発生を防止することにより、信頼性の高いフォトマスク用ペリクルを提供する。【構成】 半導体製造工程において用いるフォトマスク用ペリクルにおいて、ペリクルフレーム12の底面の内側面に装着されるパッキング15と、ペリクルフレーム12の底面の外側面に付着されるペリクルフレーム固定用接着剤13とを設けるようにしたものである。

請求項（抜粋）：

半導体製造工程において用いるフォトマスク用ペリクルにおいて、(a)ペリクルフレームの底面の内側面に装着されるパッキングと、(b)前記ペリクルフレームの底面の外側面に付着されるペリクルフレーム固定用接着剤とを具備することを特徴とするフォトマスク用ペリクル。

IPC (2件)：

G03F 1/14 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-064048
  
• 特開昭60-075835
  
• 特開昭63-239452
  
• 特開平3-020740