特許

J-GLOBAL ID：200903023395820937

ポリエーテルの製造方法

発明者： 中山 靖士 ,  深井 知裕 ,  永井 康彦 ,  斉藤 寅之助 ,  角町 博記
出願人/特許権者： 株式会社三光開発科学研究所 ,  積水化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-038826
公開番号（公開出願番号）：特開平7-247356
出願日： 1994年03月09日
公開日（公表日）： 1995年09月26日
要約：

【要約】【目的】 酸性度の低いモノマーを用いてポリエーテルを製造する場合でも、生成物を固化物の形で回収でき、従って、粉砕抽出法でポリマーの精製回収を行うことができるポリエーテルの製造方法を提供すること。【構成】 以下の条件で2価のフェノールモノマーとジハロベンゼノイドモノマーとからポリエーテルを合成し回収する方法。ジフェニルスルホン、沸点が150°C以上240°C以下のアミド系溶媒、及び沸点が100°C以上200°C以下の水との共沸溶媒を含む混合溶媒の存在下で、上記モノマーの混合物とアルカリ金属炭酸塩とを100〜200°Cの温度範囲で加熱し、該共沸溶媒を還流脱水することにより連続的に系中に存在する水を除去しつつ、上記2価フェノールモノマーとアルカリ金属炭酸塩とを反応させる。次に、240〜320°Cの範囲で加熱することにより、該アミド系溶媒と該共沸溶媒とを全溶媒重量の15%以下になるまで除去しながらポリマーの重合を行う。

請求項（抜粋）：

一般式(1)【化1】(式中、aおよびbは0〜4の整数、R1およびR2はそれぞれ独立してH、炭素数8以下のアルキル基またはアリール基、A1およびA2はそれぞれ独立して炭素数1〜8のアルキル基またはアリール基を表す)で示される2価のフェノールモノマーと、一般式(2)【化2】(式中、cおよびdは0〜4の整数、A3およびA4はそれぞれ独立して炭素数1〜8のアルキル基もしくはアリール基、R3は-SO2-、-S-、-CO-、または-O-、XはF、Cl、BrまたはIを表す)で示されるジハロベンゼノイドモノマー、または一般式(1)、(2)および一般式(3)【化3】(式中、R4は-SO2-、-S-、-CO-または-O-、XはF、Cl、BrまたはI、nは1または2を表す)で示されるヒドロキシハロベンゼノイドモノマーからポリエーテルを合成し回収する方法において、ジフェニルスルホン、沸点が150°C以上240°C以下のアミド系溶媒、及び沸点が100°C以上200°C以下の水との共沸溶媒を含む混合溶媒であって、該アミド系溶媒の含有割合が、該ジフェニルスルホン100重量部に対して100重量部以上である混合溶媒の存在下で、上記モノマーの混合物中の水酸基の当量に対して1〜1.2の当量比でアルカリ金属炭酸塩を存在させて、該モノマー混合物と該アルカリ金属炭酸塩とを100〜200°Cの温度範囲で加熱し、該共沸溶媒を還流脱水することにより連続的に系中に存在する水を除去しつつ、上記2価フェノールモノマーとアルカリ金属炭酸塩とを反応させ、次に、240〜320°Cの温度範囲で加熱することにより、該アミド系溶媒と該共沸溶媒とを全溶媒重量の15%以下になるまで除去しながら、ポリマーの重合を行うことを特徴とする、ポリエーテルの製造方法。