特許

J-GLOBAL ID：200903023405431217

ヘキサアリールビイミダゾール化合物、これを用いた感光性組成物及びパターンの製造法並びに電子部品

発明者： 日高 敬浩 ,  鍛治 誠
出願人/特許権者： 日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社
代理人 (1件)： 高田 幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-050958
公開番号（公開出願番号）：特開2000-247958
出願日： 1999年02月26日
公開日（公表日）： 2000年09月12日
要約：

【要約】【課題】溶解性に優れ、高感度な光重合開始剤となる新規なヘキサアリールビイミダゾール化合物、優れた感光特性を有し、低露光量でも形状パターンに優れる感光性組成物、優れた耐熱性、耐薬品性を示すポリイミドパターンの製造法、信頼性に優れた電子部品を提供する。【解決手段】一般式(I)【化1】(但し、個々のRは各々独立にアルキル基であり、個々のXは各々独立にフッ素原子又は水素原子である)で示されるヘキサアリールビイミダゾール化合物、これを用いた感光性組成物及びパターンの製造法並びに電子部品。

請求項（抜粋）：

一般式(I)【化1】(但し、個々のRは各々独立にアルキル基であり、個々のXは各々独立にフッ素原子又は水素原子である)で示されるヘキサアリールビイミダゾール化合物。

IPC (6件)：

C07D233/64 101 ,  C07D233/88 ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312

FI (7件)：

C07D233/64 101 ,  C07D233/88 ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/312 D ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 564 D

Fターム (34件)：

2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AA06 ,  2H025AA10 ,  2H025AA20 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC31 ,  2H025BC69 ,  2H025CA28 ,  2H025FA17 ,  2H096AA27 ,  2H096BA05 ,  2H096GA03 ,  2H096GA08 ,  5F046CA07 ,  5F046DA02 ,  5F046JA01 ,  5F046JA21 ,  5F058AA05 ,  5F058AA10 ,  5F058AC02 ,  5F058AC07 ,  5F058AE01 ,  5F058AF04 ,  5F058AF06 ,  5F058AF10 ,  5F058AG01 ,  5F058AH02 ,  5F058AH03

引用特許：

審査官引用 (4件)

• ヘキサアリールビスイミダゾール類の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-207635   出願人：日本化薬株式会社
• 特開平3-191353
  
• 特開昭62-049345
  
• 特開昭60-121740
  

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Substituent Effects on the Reactivity of Triarylimidazolyl Free Radicals toward Tris(2-methyl-4-diet