特許
J-GLOBAL ID：200903023407985082
ガス溶解水製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
細井 勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-188232
公開番号（公開出願番号）：特開2000-008083
出願日： 1998年06月18日
公開日（公表日）： 2000年01月11日
要約：
【要約】【課題】 電解装置により発生した水素ガスをガス溶解装置に導入して純水に水素ガスを溶解し、水素溶解水を製造するに当たり、微粒子状の金属不純物が水素ガスに同伴されて水素溶解水中に混入するのを防止する。【解決手段】 電解装置1とガス溶解装置2との間にガス供給管7を設け、このガス供給管7に気液分離器12を設けてなるガス溶解水製造装置において、ガス溶解装置2と気液分離器12との間に連結されたガス供給管7に、微粒子状の金属不純物を除去するためのフィルター装置13を設ける。
請求項（抜粋）：
純水供給管を流れる純水と、ガス供給管を流れるガスとが接触する気液接触部を設け、この気液接触部において純水にガスを溶解してガス溶解水を製造するようにしたガス溶解水製造装置において、ガス供給管の任意の箇所に、金属不純物を除去するためのフィルター装置を設けてなることを特徴とするガス溶解水製造装置。
Fターム (3件)：
4H003DA15
, 4H003EA31
, 4H003ED02
