特許
J-GLOBAL ID：200903023408014005
ドライエッチングの終点検出方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-204637
公開番号（公開出願番号）：特開平6-053179
出願日： 1992年07月31日
公開日（公表日）： 1994年02月25日
要約：
【要約】【目的】半導体製造工程の一つであるプラズマなどを利用したドライエッチングにおいて処理時に発生する光の発光強度変化を検出して処理の終点を検出するに際し、発光強度の変化が緩やかである場合でも終点を正確に検出するドライエッチングの終点検出方法を提供することを目的とする。【構成】状態変化により波状信号を発する被検物の状態変化の終了を検出する終点検出法であって、モニタしているサンプリング点の発光強度変化率とある指定された回数だけ前にサンプリングした点の発光強度変化率を比較して、その差があるしきい値を越えた時点をもって前記被検物の状態変化が終了したと判定する。
請求項（抜粋）：
ドライエッチングの処理時に発生する光の発光強度変化を検出して処理の終点を検出する終点検出方法であって、前記発光強度を短いサンプリングタイムにて順次モニタするとともに、その波形の大域的な性質を捉えて終点を検出するドライエッチングの終点検出方法。
引用特許：
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