特許

J-GLOBAL ID：200903023424924810

光案内チップおよび低価格で簡単な大量製作方法

発明者： アンドレオリ コーネル (原語表記)ANDREOLI,Cornel ,  ブルッガー イエルゲン ピー (原語表記)BRUGGER,Juergen,P. ,  ドレヒスラー ウーテ (原語表記)DRECHSLER,Ute ,  ベッチガー ピーター (原語表記)VETTIGER,Peter
出願人/特許権者： カール ツァイス イエナ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 松田 省躬
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-559481
公開番号（公開出願番号）：特表2002-520599
出願日： 1999年07月08日
公開日（公表日）： 2002年07月09日
要約：

【要約】近視野走査光学顕微鏡(SNOM)におけるような、走査プローブシステムでの利用に特に適している光案内チップおよびそれを製作するための方法【解決手段】チップ状窪みを作るステップ、チップ状窪みを満たしサブストレートの少なくとも1部を被履する光案内フォトレジスト層を堆積させるステップ、およびフォトレジスト層を構成してフォトレジストから光案内素子を形成させるステップとから構成される

請求項（抜粋）：

開口(64)に光を通過させるためにその頂点(66)に前記開口(64)を有する少なくとも1つのチップ(22、58、62、70、81.1、81.2)を有する光案内素子(24、34、50、60、72、80)を製作する方法であって、 (a)サブストレイト(10)の中にチップ状の窪み(12)を形成するステップと、 (b)前記チップの窪みを満たし前記サブストレ-ト(10)の少なくとも1部を被履する光案内フォトレジスト層(20)を形成するステップと、 (c)前記フォトレジスト層から前記光案内素子(24、34、50、60、72、80)を形成させるため前記フォトレジスト層(20)を形成するステップと、 の各ステップを含む方法。

IPC (3件)：

G01N 13/14 ,  G12B 21/06 ,  G03F 7/004 511

FI (3件)：

G01N 13/14 B ,  G03F 7/004 511 ,  G12B 1/00 601 C

Fターム (9件)：

2H025AA00 ,  2H025AB14 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025DA13 ,  2H025DA40 ,  2H025FA04 ,  2H025FA14