被覆酸化物粒子、その製造法、該粒子を含有する日焼け止め剤及び該粒子の使用

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：矢野敏雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-231876
公開番号（公開出願番号）：特開2003-119006
出願日： 2002年08月08日
公開日（公表日）： 2003年04月23日
要約：

【要約】【課題】先行技術の欠点を回避し、低ストラクチャーを有し、日焼け止め剤及びCMP用途において使用されることができる二酸化ケイ素で被覆された金属酸化物粒子。【解決手段】水中に溶解させた塩基を、金属酸化物、型XnSi(OR)4-nの少なくとも1つの化合物及び水を含んでいる分散液に撹拌しながら添加し、反応生成物を分離し、場合により水で洗浄しかつ乾燥させることにより製造される被覆金属酸化物粒子。

請求項（抜粋）：

金属酸化物のコア及びコアを取り囲んでいる二酸化ケイ素の被膜を含んでいる被覆酸化物粒子において、被覆酸化物粒子がフタル酸ジブチル吸収の間に終点がないことにより定義される低ストラクチャーを有していることを特徴とする、被覆酸化物粒子。

IPC (4件)：

C01B 13/14 , A61K 7/42 , C01B 33/12 , C01G 23/04

FI (4件)：

C01B 13/14 A , A61K 7/42 , C01B 33/12 C , C01G 23/04 B

Fターム (35件)：

4C083AA122 , 4C083AB211 , 4C083AB231 , 4C083AB241 , 4C083AB242 , 4C083AB362 , 4C083AC012 , 4C083AC122 , 4C083CC19 , 4C083EE01 , 4C083EE17 , 4G042DA01 , 4G042DB27 , 4G042DC03 , 4G042DD04 , 4G042DE03 , 4G042DE12 , 4G047CA02 , 4G047CB08 , 4G047CC03 , 4G047CD04 , 4G047CD07 , 4G072AA25 , 4G072BB09 , 4G072DD06 , 4G072GG01 , 4G072GG03 , 4G072HH30 , 4G072MM02 , 4G072MM23 , 4G072MM31 , 4G072NN21 , 4G072RR01 , 4G072TT06 , 4G072UU30

引用特許：

審査官引用 (1件)

特開平4-174679

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