特許
J-GLOBAL ID：200903023439590861
半導体装置生産用クリーンルーム
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-065667
公開番号（公開出願番号）：特開平10-259938
出願日： 1997年03月19日
公開日（公表日）： 1998年09月29日
要約：
【要約】【課題】 クリーンルーム内においてウエハ表面や生産装置のケミカル汚染を防止し、かつケミカル汚染防止に要するコストを低く抑える。【解決手段】 半導体装置を生産するための生産空間2の天井側に配置されたフィルタ6からエアーを吹き出すとともに生産空間2の床3に形成された貫通孔(通気部)3aを介して床下4にエアーを戻し、このエアーを外部から取り込んだフレッシュエアーと混合して再び生産空間2内を循環させる半導体装置生産用クリーンルーム1であって、外部から取り込こんだフレッシュエアーの一部を生産空間2内を循環するエアーと混合することなく天井側に送り込んでこの天井側から生産空間2内の所定の領域に吹き出すフレッシュエアー供給手段20を備えている。
請求項（抜粋）：
半導体装置を生産するための生産空間の天井側からエアーを吹き出すとともに該生産空間の床に形成された通気部を介して床下にエアーを戻し、このエアーを外部から取り込んだフレッシュエアーと混合して再び前記生産空間内を循環させる半導体装置生産用クリーンルームであって、外部から取り込こんだフレッシュエアーの一部を前記生産空間内を循環するエアーと混合することなく前記天井側に送り込んでこの天井側から生産空間内の所定の領域に吹き出すフレッシュエアー供給手段を備えていることを特徴とする半導体装置生産用クリーンルーム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
F24F 7/06 C
, H01L 21/02 D
