特許
J-GLOBAL ID：200903023452734155
ガスデポジション装置および方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-062540
公開番号（公開出願番号）：特開2000-256829
出願日： 1999年03月10日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：
【要約】【課題】 蒸発源より蒸発する超微粒子のガス流を安定化させ、堆積速度の安定したガスデポジション装置および方法を提供する。【解決手段】 蒸発源および該蒸発源の上方に搬送管の開口部を設けた超微粒子生成室と、該搬送管の他開口部に結合されたノズル及びこれに対向して配設される基板を固定するステージを設けた膜形成室とから成り、該蒸発源より蒸発する超微粒子を該超微粒子生成室内に導入されるガスと共に該搬送管中を搬送し、該ノズルから噴射する該超微粒子を該基板上に堆積させることにより膜形成するガスデポジション装置において、該搬送管の開口部に該蒸発源より蒸発する該超微粒子を収集するための機構を備えた。
請求項（抜粋）：
蒸発源および該蒸発源の上方に搬送管の開口部を設けた超微粒子生成室と、該搬送管の他開口部に結合されたノズル及びこれに対向して配設される基板を固定するステージを設けた膜形成室とから成り、該蒸発源より蒸発する超微粒子を該超微粒子生成室内に導入されるガスと共に該搬送管中を搬送し、該ノズルから噴射する該超微粒子を該基板上に堆積させることにより膜形成するガスデポジション装置において、該搬送管の開口部に該蒸発源より蒸発する該超微粒子を収集するための機構を備えたことを特徴とするガスデポジション装置。
Fターム (3件)：
4K029CA01
, 4K029DA06
, 4K029DB11
