特許

J-GLOBAL ID：200903023455884166

放射線治療装置

発明者： 上田 尚樹 ,  高橋 英希 ,  土肥 元達 ,  小柳 慶二
出願人/特許権者： 株式会社日立メディコ
代理人 (1件)： 秋田 収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-170987
公開番号（公開出願番号）：特開平6-007462
出願日： 1992年06月29日
公開日（公表日）： 1994年01月18日
要約：

【要約】【目的】 ターゲットに対する電子ビームの入射位置および入射角度をそれぞれ独立に制御する。【構成】 第1偏向用電磁石と、第2偏向用電磁石と、ターゲットと、平坦化フィルタと、検出器を順次備える放射線治療装置において、(1)前記ターゲットはそれに照射される電子ビームの位置のずれ量を検知できるように構成するとともに、その位置のずれ量に応じた各電流を前記第1偏向用電磁石および第2偏向用電磁石に流すことにより、前記電子ビームのターゲットに対する位置ずれ量を補正する手段を設けた。(2)前記ターゲットに対する電子ビームの位置情報を格納する記憶装置と、X線の前記検出器に対する位置のずれ量を検知し、このずれ量と前記記憶装置に格納されている位置情報との差分をとり、この差分量に応じた各電流を前記第1偏向用電磁石および第2偏向用電磁石に流すことにより、前記電子ビームのターゲットに対する入射角度のずれ量を補正する手段を設けた。

請求項（抜粋）：

第1偏向用電磁石と、第2偏向用電磁石と、ターゲットと、平坦化フィルタとを順次備える放射線治療装置において、前記ターゲットはそれに照射される電子ビームの位置のずれ量を検知できるように構成するとともに、その位置のずれ量に応じた各電流を前記第1偏向用電磁石および第2偏向用電磁石に流すことにより、前記電子ビームのターゲットに対する位置ずれ量を補正する手段を設けたことを特徴とする放射線治療装置。

IPC (2件)：

A61N 5/10 ,  G21K 5/04